Лого Сделано у нас
69

Российские ученые совершили прорыв в области оптической печати

Российские ученые совершили прорыв в области оптической печати, предложив инновационный тип литографии высочайшего разрешения — электрохимическую рентгеновскую литографию.

Исследователи факультета наук о материалах МГУ имени Ломоносова во главе с Андреем Елисеевым опубликовали в журнале Angewante Chemie работу, посвященную оптической бесконтактной печати нового поколения (метода формирования на поверхности подложки электронных схем и наноструктур), которая должна стать ответом на вызов, брошенный производителями микроэлектроники.

В своем стремительном развитии микроэлектроника сталкивается с массой технологических проблем, и одна из них — совершенствование видов литографии, необходимое для дальнейшего уменьшения размеров электроэлементов.

Электромеханическая рентгеновская литография сочетает преимущества рентгеновской фотолитографии с универсальностью электрохимической обработки. Уникальным такой способ делает совмещение воздействия рентгеновского излучения с длиной волны в единицы ангстрем (десятые доли нанометра) и электрохимического синтеза новых планарных материалов с упорядоченной структурой на границе раздела твердой подложки и раствора.

В результате испытаний ученые смогли получить структурированные слои электроосажденного металлического никеля на плоской подложке кремния с напыленным слоем золота. Применяя рентгеновское излучение через кремниевую маску, расположенную на расстоянии четырех микрометров, удалось увеличить ток при осаждении никеля из электролита на подложку. Такой эффект стал возможен благодаря фотоионизации подложки при воздействии квантов рентгеновского излучения и испусканию фотоэлектронов в объем электролита, что способствует электрохимическому восстановлению ионов никеля.

На сегодня такой метод — самый продвинутый, хотя новинки в этой области появляются с завидной регулярностью. Изобретение россиян может составить серьезную конкуренцию уже используемым продуктам фотолитографии с длиной волны 13 нм и рентгенолитографии с длиной волны излучения 0,4–5 нм, которые до последнего времени считались победителями в гонке за наноразмером.

  • 0
    Нет аватара kavlad
    29.10.1213:23:26
    Это действительно прорыв. Насколько я знаю, наши учёные работают и в зарубежных исследовательских центрах, т.е. приложили руку и к "уже используемым продуктам фотолитографии с длиной волны 13 нм и рентгенолитографии с длиной волны излучения 0,4–5 нм, которые до последнего времени считались победителями в гонке за наноразмером". С распадом Союза, видимо, произошла утечка мозгов и технологий к мировым лидерам литографии.
    • 0
      Нет аватара Sergey Moshin
      29.10.1213:46:29
      Вот хорошая статья на эту тему в "эксперте" почти годичной давности http://expert.r...it-nanopasyans/
    • 0
      user78 user78
      29.10.1214:23:10
      С распадом Союза, видимо, произошла утечка мозгов и технологий к мировым лидерам литографии.
      именно так и было. Западную науку и технику во многом двигают русские мозги ;) Надо бы их потихоньку возвращать....
  • 0
    Нет аватара Biggs
    29.10.1214:40:01
    Не понял Так каких результатов добились? На западе сейчас серия двадцать- тридцать нанометров. А что получили мгушники?
    Отредактировано: Biggs~15:52 29.10.12
    • 0
      Zveruga Zveruga
      29.10.1222:15:13
      Они получили способ создания нового литографа.
  • 0
    Роман Кокшаров Роман Кокшаров
    29.10.1214:48:37
    Не просто так мы по расходу средств на науку приблизились к Великобритании и Франции))) Хорошая новость +++++
  • 0
    Нет аватара Houker
    29.10.1216:02:05
    Нифига не знаю про эту технологию,но по прочитанному понял ,что штука крутая.Плюс и разработчикам и новости...
  • 0
    Нет аватара CircleMaster
    29.10.1219:46:13
    Блин, ну сколько раз говорить - не пишите о том, чего не понимаете! Уменьшения размеров области печати такой технологией они пока не добились - характерный размер маски 4 микрона. То, что совместили фотолитографию и электрохимию поверхности - интересный эксперимент. Использование фотоэлектронов для осаждения материала из электролита - очень красивое техническое решение. Но технологического прорыва и разрыва в клочья всех иностранных конкурентов здесь нет. Возможно, пока нет.
    • 0
      Нет аватара Igor_rus
      29.10.1222:13:03
      "...характерный размер маски 4 микрона..." Так всё таки размер или расстояние?
    • 0
      Zveruga Zveruga
      29.10.1222:29:12
      Рентген уже позволяет создавать объекты меньше 10 нм. Причем тут размер маски? Она всегда больше получаемого объекта, ведь в этом суть оптической литографии. Так чтоже они получили? Как делают сейчас. 1. Наносят на подложку хим. реактив реагирующий на ультрафиолет. 2. Просвечивают ультрафиолет через маску и "засвечивают" необходимые области. 3. Смывают незасвеченные области хим. реактива на подложке. 4. Напыляют металлы. 5... Для создания рентгеновского фотолитографа миру нужен реактив реагирующий на рентгеновское излучение, так вот в этой статье как раз и говориться о способе получения одновременной "засветки" и напыления необходимого рисунка. Этот способ пункты 1-4 объединяет в один.
      • 0
        Нет аватара CircleMaster
        30.10.1215:27:44
        Угу. Вот только пункты 1-4 проводятся не в растворе электролита. А в этой работе идет осаждение именно из электролита. При этом приходится использовать рентген с энергией квантов под 10 кэВ, потому что меньшие энергии в растворе поглощаются. Видимо для того, чтобы сохранить поверхность полупроводника чистой, никель осаждали на слой напыленного золота. Технология в таком виде явно будет дороже, чем уже использующаяся - слишком много разных техпроцессов. Вот фотография из абстракта той самой статьи, о которой идет речь:

         © onlinelibrary.wiley.com

        Очевидно, что ни о каких десятках нанометров речи не идет. Характерный размер пятна напыленной маски - 2-4 микрона. Про толщину в аннотации ничего не сказано, а платить $20 за статью, которая вряд ли мне в дальнейшем пригодится, как-то жаба душит. На данном этапе технология для производства "процессоров для айфонов" не пригодна. Вероятно, её назначение в чем-то другом. Может быть, это сильноточная полупроводниковая техника. Может быть, производство метаматериалов... Не знаю, я в этом вопросе не специалист. Факт в том, что статью как дешевую пропаганду написал нифига не понимающий журналист, а потом, не разобравшись, выложили сюда.

        Отредактировано: CircleMaster~16:49 30.10.12
        • 0
          Zveruga Zveruga
          31.10.1201:24:18
          Ну, размер на фотографии не ограничивает технологический предел, который можно получить применяя данную технологию. Кроме того, в мире вообще нет рентгеновского литографа, пригодного для производства процессоров Айфонов. У нас есть технология, которая защищена патентом, получена в железе, работает с рентгеном. Задумайтесь, если бы эта новость прозвучала от Белл лабс или Интел вы бы сказали, вот они получили, а когда у нас есть открытие все молчат. Наши даже терабитовую флешь память для Самсунга разрабатывают, но ни кто об этом не знает. А когда она на рынок выйдет будут в нас пальцем тыкать, посмотрите, они ни чего не могут сделать.
          Отредактировано: Zveruga~02:17 31.10.12
          • 0
            Нет аватара CircleMaster
            31.10.1217:49:14
            Я бы - не сказал даже про Интел. Потому что хорошо понимаю, что открытие - не технология. Грубо говоря, открытие - это первый шаг в НИР. А готовый прототип, не промышленный даже образец, - это уже ОКР. Время же, потребное на переход от НИРа к ОКРу - не один год. Дальше. По фотографии, по крайней мере мне, видно, что осаждение - неравномерно. Контраст между пятном и промежутком я бы оценил как меньше сотни. И неравномерность в пятне достаточно высока. Поэтому то, что есть в железе - к использованию для получения размеров "менее 10 нм", о которых говорили Вы, не пригодно. Технологического предела данной технологии без прочтения статьи целиком не узнать, потому дальнейшее обсуждение данной технологии будет исключительно фантазиями на тему. Все имеющиеся факты мы уже обсудили. Я рад и горд тем, что в МГУ работают люди с таким списком научных работ, что они делают, ну, это все таки не открытие, но добиваются интересных результатов. Но кричать на основании в общем-то довольно бестолковой статьи в Эксперте, что мы впереди планеты всей - как минимум преждевременно.
        • 0
          Нет аватара ak262
          28.12.1200:41:41
          Вот статья есть полупопулярная. Eliseev A.A. et al. Electrochemical X-ray Photolithography За нее вроде деньгу не просят.
          Отредактировано: ak262~00:45 28.12.12
  • 0
    Нет аватара EyeSauronn .
    29.10.1221:38:42
    Ну и когда наши оставят иностранных конкурентов без работы? то есть когда пойдут ИМС с росийского ФАБа? А то ведь эти разработки по сути фундаментальны, но не их ждёт страна, а результатов,.... микросхем которых нет у конкурентов, микросхем с новым разрешением. Сильно надеюсь что данная разработка быстро пойдёт в Росийское производство(будет приносить прибыль), а иначе она нафиг не нужна.
    • Комментарий удален
    • 0
      Zveruga Zveruga
      29.10.1222:17:54
      А вот тут все зависит от РОСНАНО и Сколково. Предыдущее достижение, рентгеновский литограф, создан нашими учеными из РАН работающими по договору на ASML - мирового производителя литографов, у которого их покупает и Интел и АМД. Если это открытие снова не заметит РОСНАНО, то оно также уйдёт в ASML.
      • 0
        Нет аватара CircleMaster
        30.10.1216:48:11
        У ASML годовые инвестиции в R&D - 590 миллионов долларов. Роснано даже близко такой суммы в разработку вложить не сможет. К тому же ASML выпускает готовый продукт - а это, кроме самого фотолитографа, сверхточные подвижки, технология очистки подложки, вакуумное оборудование и ещё очень и очень много. Проектировать и создавать такую установку целиком - не один год, да и по стоимости выйдет ну очень дорого. Гораздо лучше, разрабатывая такой комплекс у себя, имеющиеся наработки использовать в составе зарубежных установок, получая за это и деньги, и опыт, и репутацию. В перспективе, конечно, нужно рассчитывать на полностью свою установку. Но сидеть на разработке, как собака на сене - глупо. Что-то аналогичное изобретет через полгода кто-нибудь ещё, и будут потеряны время, усилия, деньги.
        • 0
          Zveruga Zveruga
          31.10.1201:30:01
          Наши не только рентгеновский излучатель и линзы для ASML сделали, но и магнитные позиционные движители. По поводу инвестиций РОСНАНО вы ошибаетесь. Только за 2011 год РОСНАНО инвестировало более 2 миллиардов долларов. Самая большая "разовая" инвестиция у РОСНАНО составила 448 миллионов долларов.
          Отредактировано: Zveruga~09:15 31.10.12
          • 0
            Нет аватара CircleMaster
            31.10.1217:28:40
            Самая большая - разовая. А здесь нужна - ежегодная. Мои комментарии по поводу установки целиком вы ,конечно, проигнорировали...
  • 0
    DeeCo DeeCo
    30.10.1215:58:12
    Такое чувство, что я тут один не понимаю, что написано в посте ))) Пошел рыть просторы интернета...
  • 0
    Нет аватара grooman
    31.10.1216:17:32
    Опять этим воспользуются американцы и китайцы, и первооткрывателей перепишут на себя. Так всегда было, потому как здесь открытия никому не нужны, чинуши зарабатывают бабло, а не глупостями занимаются
Написать комментарий
Отмена
Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,