Производитель Россия — Установка плазмохимического травления и осаждения
Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-П
Назначение
Плазмохимическое осаждение из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4, и др.);
Удаление фоторезиста в кислородной плазме;
Плазмохимическое травление широкого спектра материалов, очистка и модифицирование поверхности подложек и структур;
Атомно-слоевое осаждение тонких конформных слоев.
ЭТНА-П Установка имеет компактные размеры и выполнена в виде моноблока. Реактор выполнен из нержавеющей стали с постоянным верхнем фланцем, несущем на себе функции нагрева и удержания образцов. На нижнем фланце располагается узел генерации индуктивно-связанной плазмы. Загрузка образцов — фронтальная через порт быстрого доступа. Баллоны с газами располагаются в дополнительном шкафу (поставляются отдельно). Ориентирована на лабораторное исследовательское и образовательное применение, а также мелкосерийное производство.
Разработка и производство Россия, ООО «СИТЭК» — в России лучше и многообразнее.
Хочешь всегда знать и никогда не пропускать лучшие новости о развитии России? У проекта «Сделано у нас» есть Телеграм-канал @sdelanounas_ru. Подпишись, и у тебя всегда будет повод для гордости за Россию.