-
Фотолитография с пятнадцатилетним опозданием © stimul.onlineСтеппер ASML: ключевое звено в производстве микросхем. Стоимость прибора около $170 млн
Две зеленоградские организации по заказу Минпромторга занялись разработкой фотолитографов (степперов) для реализации разных проектных норм. Это Зеленоградский нанотехнологический центр, который будет разрабатывать фотолитограф на 130 нм и Центр коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонентная база» при НИУ «Московский институт электронной техники» (ЦКП «МСТ и ЭКБ» МИЭТ), взявшийся за разработку концепции безмасочного экстра ультрафиолетового (ЭУФ) с длиной волны излучения менее 13,5 нм литографа с разрешением 28 нм и менее. Первый необходим для поддержания существующего уровня российской микроэлектроники, второй — для достижения самого современного уровня. О ходе работ в этом направлении пишет журнал об инновациях в России «Стимул» (Статья публикуется одновременно также в журнале «Эксперт»).
-
Российские ученые совершили прорыв в области оптической печати, предложив инновационный тип литографии высочайшего разрешения — электрохимическую рентгеновскую литографию.
Исследователи факультета наук о материалах МГУ имени Ломоносова во главе с Андреем Елисеевым опубликовали в журнале Angewante Chemie работу, посвященную оптической бесконтактной печати нового поколения (метода формирования на поверхности подложки электронных схем и наноструктур), которая должна стать ответом на вызов, брошенный производителями микроэлектроники.
В своем стремительном развитии микроэлектроника сталкивается с массой технологических проблем, и одна из них — совершенствование видов литографии, необходимое для дальнейшего уменьшения размеров электроэлементов.
