Лого Сделано у нас
126

В Москве запущено производство элементов литографического оборудования нового поколения

3 июля на территории Технополиса «Москва» запущена линия по производству одного из наиболее наукоемких и центральных компонентов безмасочных литографов голландской компании Mapper Lithography — элементов электронной оптики на основе МЭМС (микроэлектромеханических систем).

Компания, одним из акционеров которой является РОСНАНО, вложила в организацию нового производства в Технополисе «Москва» около 1 млрд рублей.

"Mapper Lithography" более 10 лет разрабатывает технологии электронно-лучевой безмасочной литографии. Литографические машины применяются при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных микросхем, а также некоторых сверхпроводниковых наноструктур.

Планируется, что запущенная производственная линия полностью покроет потребности компании в элементах электронной оптики для литографических машин.

Площадь московского завода составляет две тысячи квадратных метров. Из них половина приходится на чистые помещения, которые, согласно измерениям, соответствуют классу чистоты по стандарту ISO 6.

Производственная линия полностью укомплектована современным высокотехнологичным оборудованием.

На предприятии будет работать команда из 30 российских специалистов, прошедших обучение в Нидерландах. Примечательно, что для работы на этом сверхсовременном производстве в Россию вернулись и некоторые инженеры, ранее уехавшие из страны и добившиеся успеха на Западе в ведущих иностранных компаниях.

Литография является центральным процессом производства интегральных микросхем, полупроводниковых приборов, а также некоторых сверхпроводниковых наноструктур. Стандарт отрасли сегодня — оптическая иммерсионная литография, которая обеспечивает разрешение около 32 нанометров. Ряд дополнительных технологий позволяет увеличить разрешение оптической литографии до 22 нанометров, что ощутимым образом ухудшает экономику производства.

Альтернативой оптической литографии является безмасочная литография на основе лучевой технологии (Electron-beam lithography, E-beam). Mapper Lithography более 10 лет разрабатывает технологии электронно-лучевой безмасочной литографии и уже имеет несколько промышленных прототипов литографа, которые были приобретены и проходили тестирование у ведущих игроков отрасли — тайваньской компании TSMC и научно-исследовательского института микроэлектроники CEA-Leti (Франция). На данный момент оборудование компании позволяет достичь разрешения в 22 нанометра.

В России производится ключевой компонент литографических систем Mapper — электронная оптика на основе микроэлектромеханических систем (МЭМС). Инновационность решений Mapper и их основное отличие от конкурентов состоит в использовании не одного электронного луча, как это делалось ранее, а 13 000 лучей одновременно, что резко повышает производительность системы. Элементы электронной оптики, выпускаемые в России, как раз и превращают один луч в 13 000 и управляют каждым таким лучом в отдельности.

Предполагается, что на заводе в Москве будут изготавливаться три типа элементов электронной оптики. Самые простые — спейсеры — служат для разделения элементов электронной оптики. Следующие по сложности структуры — кремниевые электронные линзы, предназначены для фокусировки и коллимации пучков электронов. Их производство начнется к концу текущего года. Выпуск самых сложных элементов — содержащих электронику управляющих электродов — планируется начать к концу 2015 года.

Рынок литографического оборудования крайне консолидирован и, фактически, представлен тремя крупнейшими производителями: ASML, Nikon и Canon. Объем рынка составляет около $6 млрд, что соответствует продажам нескольких сотен машин в год.

К моменту выхода на проектную мощность, российский завод Mapper будет выпускать комплекты электронной оптики для 20 машин в год.

Продукция Mapper ориентирована на две рыночные ниши. Во-первых, литографы компании предназначены для небольших мало- и среднесерийных производителей чипов. Отсутствие необходимости заказывать маски (одного из самых затратных элементов в производстве микроэлектроники) делает рентабельным для таких компании выпуск даже минимальных партий чипов. Во-вторых, продукция Mapper адресована и крупным компаниям, заинтересованным в скорейшем продвижении новых продуктов на рынок. На стадии дизайна чипа производитель вынужден заказывать несколько масок. В случае ошибки, маску приходится переделывать, что выливается во временные и финансовые затраты.

Оборудование Mapper позволяет на этапе разработки проверить практически неограниченное количество вариантов дизайна без необходимости создания множества литографических масок, что существенно удешевляет и ускоряет вывод на рынок нового продукта.

Видео о технологии на языке потенциального противника:  https://www.youtube.com/wa...mbedded&v=OQBcDbhw-0Y 

Статья на русском с пояснениями:  http://habrahabr.ru/post/213379/ 

  • 7
    Нет аватара Maximus
    04.07.1418:41:25

    Ну наконец-то!

    Итак, теперь у россии появляется "производство средств производства" в области электроники высшей категории сложности!

  • 0
    Нет аватара Leon V
    04.07.1422:00:48

    "до 22 нанометров, что ощутимым образом ухудшает экономику производства." - Это не очепятка?

    • 4
      Евгений Романов
      04.07.1422:39:39

      Вероятно, имеется в виду, что выход годных при технологии 22 нанометра очень низкий, из-за чего цена получается заоблочной по сравнению с 32.

      А вообще, круто. Революция в микроэлектронике, которая может дать мощный импульс именно отечественному производителю, который, в основном, сосредоточен на мелкосерийном производстве для узкого, нишевого потребления.

      Сравнимо с революцией в производстве пластиковых изделий, произошедшей за последние 10 лет. Теперь, благодаря новым технологиям, стало выгодно производить даже штучные изделия

      • 0
        Нет аватара Ra
        05.07.1400:01:41

        Как бэ... Противоречия все таки присутствуют..

        Ряд дополнительных технологий позволяет увеличить разрешение оптической литографии до 22 нанометров, что ощутимым образом ухудшает экономику производства.

        Инновационность решений Mapper и их основное отличие от конкурентов состоит в использовании не одного электронного луча, как это делалось ранее, а 13 000 лучей одновременно, что резко повышает производительность системы.

        Резко повышает, а на выходе все равно пшик?!

        Явная очепятка в слове улучшает.

        • 1
          Евгений Гл Евгений Гл
          05.07.1400:42:58

          Все правильно, использующаяся сейчас технология(фотошаблоны) ухудшает экономику при уменьшении тех процеса.

        • 0
          karnivan karnivan
          05.07.1403:14:05

          Оптическая иммерсионная литография упиралась в 22-нм, только при очень массовом производстве процент брака перебивался массовостью производства. Тут же будет использоваться электронно-лучевая безмасочная литография, в которой нет зависимости от шаблона и следовательно процент брака меньше.

        • 1
          Zveruga Zveruga
          05.07.1409:52:33

          В первом приведённом вами абзаце идёт речь о проекционной литографии, а во втором об растровой.

          В первом случае печать микросхем похожа на печать фотографий с кадра плёнки, во втором на печать на струйном принтере.

          Отредактировано: Zveruga~10:51 05.07.14
    • 0
      Zveruga Zveruga
      05.07.1409:51:23

      Нет. Так и есть. Выход годных чипов на такой топонорме плохой. Для создания микросхем по такой топонорме нужно много сверхточных масок. Эти два параметра увеличивают себестоимость производства. И чем более мелкие транзисторы будут пытаться делать производители по проекционной литографии тем дороже будет производство.

      • 0
        Нет аватара Leon V
        05.07.1410:53:51

        Большое спасибо за разъяснения, очень интересно. В любом случае 32нм отечественный техпроцесс, - это здорово!

  • -1
    Kolyda Kolyda
    05.07.1401:32:46

    Кто в курсе - почему кремневые диски на втором снимке какие-то кривоватые? Брак демонстрируют что ли?

    • 4
      Максим Кошелев Максим Кошелев
      05.07.1401:48:12

      Они не совсем диски, у них одна сторона немного обрезана, для удобства. Вот эта сторона как попало в этой стопке расположена    

    • 5
      Нет аватара protonuxt
      05.07.1403:19:57

      Это так называемый "базовый срез". Он используется для ориентации пластины в определенном положении при операциях фотолитографии и резки пластин на чипы.

  • 0
    Евгений Бубнов Евгений Бубнов
    05.07.1411:26:27

    Интересно, а у нас такую установку будут ставить? Это было бы вообще просто супер=) Нее, можно пойти по своему пути, и разработать аналогичную установку и использовать в ней эти же компоненты(ну или чуть измененные, для себя... Но это все время.

    • 2
      Zveruga Zveruga
      05.07.1412:37:37

      Как сообщили из Роснано доля в Маппер позволяет нам приобрести эти установки со скидкой, но кто их будет покупать неизвестно.

      В принципе себестоимость производства на таких установках должна быть гораздо ниже для мелкосерийного и серийного производства микросхем, а это то самое, что нужно нашему рынку. Предполагаю, что наши производители вроде Микрона и Ангстрема купят эти установки. Но не обязательно только они, её могут купить и многие другие производители в нашей стране, которые выпускают мелкие серии и о которых мало кто знает.

      • 1
        Евгений Бубнов Евгений Бубнов
        05.07.1413:24:18

        Ну если так - то хорошо=) Если наладят мелкую, но более менее доступную серию - будет просто замечательно.

        Отредактировано: Bubaylo~13:44 05.07.14
      • 0
        karnivan karnivan
        05.07.1414:48:07

        С покупкой оборудования, для производства чипов для военных, могут быть теже проблемы, что и раньше.

        Однако, радоваться рано — Роснано лишь один из инвесторов и производитель в любом случае будет вынужден выполнять требования экспортного контроля всех стран, участвующих в разработке. А это значит, что получить такую систему в России по хорошему можно будет только для гражданских производств. (хабр)

        Т.е. у нас будет производится только компотен этой установки и это еще не гарантирует, права использовать ее для военных целей.

        Отредактировано: karnivan~14:48 05.07.14
        • 2
          Zveruga Zveruga
          05.07.1415:20:19

          Только забыли, что наша доля в Маппер позволяет и нам накладывать экспортные ограничения на эту установку. Т. е. с Маппер мы играем по правилам запада. Если они нам запретят, то и мы им запретим.

  • 0
    Chetnik Chetnik
    05.07.1414:21:51

    На хабре говорят что эти изделие что будут выпускатся в Москве, не критични для МАППЕР.

    Как дела с ЭУФ-лаб в Троицке? Там важнее изделия выпускают для АСМЛ.

    • 4
      Zveruga Zveruga
      05.07.1415:22:11

      Скажем так, я заочно знаком с автором статьи.

      Там есть один момент. Линзы отклоняющие лучи имеют наше ноу-хау. Мы предложили более простой и надёжный вариант отклоняющей системы для этих установок и это наша интеллектуальная собственность. Если хотят обойтись своими силами, то должны предложить свою линзу.

      Отредактировано: Zveruga~15:32 05.07.14
      • 0
        Денис Шамирян Денис Шамирян
        06.07.1400:58:20

        В отклоняющих линзах нашего ноу-хау нет, никакой интеллектуальной собственности тоже. Мы будем производить линзы по дизайну, разработанному голландской головной компанией. Кстати, одна из первых установок Mapper Lithography будет продана, скорее всего, в Россию.

        • 0
          Zveruga Zveruga
          06.07.1402:31:36

          На IXBT информация проходила, что наши предложили несколько изменённый вариант отклоняющей микросистемы. Её тестировали и она оказалась эффективной. Источник на вряд ли сейчас смогу накопать.

          Вроде как голландцы сначала предложили более сложную схему в которой ячейки друг на друга влияли, а в нашем предложении этого влияния не было.

          Отредактировано: Zveruga~02:32 06.07.14
          • 0
            Денис Шамирян Денис Шамирян
            06.07.1403:31:50

            Мне жаль Вас разочаровывать, но эта информация не соотвествует действительности.

            • 1
              Zveruga Zveruga
              06.07.1405:03:57

              Не переживайте, я особо не расстроюсь.

              Раз уж вы в курсе, то не могли бы сказать, какую производительность вафель в час достигли на разрабатываемой установке?

              А что скажите по поводу экспортного ограничения?

              • 1
                Денис Шамирян Денис Шамирян
                06.07.1409:27:48

                На данный момент производительность составляет 1 пластина (300 мм)/час. После того, как мы обеспечим производство высококачественных элементов электронной оптики, производительность будет доведена до 10 пластин/час. Концепция установки предполагает модульность, до 10 модулей в одной установке, так что теоретически одна установка может производить 100 пластин/час.

                Про экспортные ограничения ничего сказать не могу - я занимаюсь технологией, а не политикой.

                Отредактировано: Денис Шамирян~09:39 06.07.14
                • 0
                  Zveruga Zveruga
                  06.07.1416:48:35

                  Не подскажите, какая литографическая установка в Москве используется для производства МЭМС линз?

    • 1
      Денис Шамирян Денис Шамирян
      06.07.1401:00:04

      Элементы электронной оптики являются критичными для всей машины, автор статьи на Хабре не полностью владеет информацией.

      • 0
        Chetnik Chetnik
        06.07.1405:09:57

        Хорошо. У меня есть вопрос.

        Есть ли возможно использовать эту оптику и ЭУФЛабс технологию, и сделат безмасочний ЭУФ?

        Мне кажется что эта МАППЕР безмасочнная технология только идеет до 45нм. А ЕУФ очень дорогая для мелкосерийнних. Безмасочная ЕУФ было бы круто.

        • 1
          Денис Шамирян Денис Шамирян
          06.07.1409:38:45

          ЭУФ и электронная литография различаются принципиально. Электронными пучками довольно легко управлять - они проходят через отверстия, в которых есть управляющие электроды. Так как электроны являются заряженными частицами, при приложении напряжения и создании электрического поля их траектории отклоняются, что позволяет создавать на пластине необходимый рисунок. В ЭУФ используются фотоны, управлять которыми гораздо сложнее, так как они всегда летят по прямой. Я слышал про системы микрозеркал, которые позволяют реализовать безмасочную фотолитографию (каждое микрозеркало поворачивается таким образом, чтобы отражать свет в правильном направлении, получается нечто вроде пикселей). Но, насколько я знаю, для ЭУФ такая технология не применяется. Там с обычными-то зеркалами много проблем.

          Технология многолучевой электронной литографией в разрешении особо не ограничена - в основном все опять упирается в качество электронной оптики. Насколько я знаю, разрешение меньше 20 нм обеспечить можно. На данный момент задачи достичь супер разрешения нет. Главное - сделать машину, которая будет наносить рисунок без маски. Даже для технологии 45 нм это будет существенным прорывом - стоимость масок огромна и многие малосерийные проекты умирают не родившись. Безмасочная литография откроет новые рынки уникальных малосерийных продуктов. Ну а в дальнейшем пойдет совершенствование разрешения. Классическая фотолитография тоже не с 22 нм начиналась.

          Отредактировано: Денис Шамирян~09:41 06.07.14
          • 0
            Леха Венедиктов
            06.07.1418:42:33

            У меня 3 вопроса:

            1. Как правильно: безмасковая или безмасочная?

            2. Если безмасковая литография состоится как промышленная технология, означает ли это реальную возможность обнуления нашего отставания в производстве микроэлектронных компонентов? (главный вопрос)

            3. Почему Роснано сразу не "пристроило" производство к Ангстрему или Микрону?

            • 0
              Денис Шамирян Денис Шамирян
              09.07.1417:18:36

              1. Не знаю. Мне привычнее "безмасочная" по аналогии с краска - красочная, маска - масочная - безмасочная

              2. Отставание определяется не только наличием оборудования для одного конкретного процесса (пусть и самого важного). Если АвтоВАЗ получит станок, на котором можно изготавливать идеальные двигатели, станет ли Лада Мерседесом?

              3. Представьте ситуацию, когда невестка приходит в дом к свекрови и начинает ее учить готовить, каков будет результат? Вот и мы решили жить отдельно.

  • Комментарий удален
  • 0
    Нет аватара Enot5467
    07.07.1405:40:36

    Хм, некоторые комментарии очень даже познавательные. И как-бы не было много негативных вкраплений, уверен, это еще один шаг в развитии страны. А не запинается только тот, кто ни куда не идёт.

  • 0
    Нет аватара const000
    07.07.1418:31:33

    "безмасочных литографов голландской компании Mapper Lithography"

    Это не та компания, которую Чубайс скрещивал с нашими наработками с деньгами Роснано? Почему тогда результат голландский?

    • 0
      Денис Шамирян Денис Шамирян
      09.07.1417:20:30

      Наших наработок там нет. Есть деньги роснано, есть российские инженеры, которые будут работать на российском заводе по технологиям, разработанным голландцами.

Написать комментарий
Отмена
Для комментирования вам необходимо зарегистрироваться и войти на сайт,